万亿美光的全球扩产版图:美国、日本、新加坡同步扩产,新产能一路排到2030年

华尔街见闻05-27

美光科技正将AI驱动的存储器需求热潮转化为一场横跨多大洲的产能扩张行动。

美光隔夜股价暴涨19%,市值1万亿美元关口,随后以历史收盘新高收市,创下今年以来第28个历史峰值。与此同时,美光管理层预计存储器市场供应偏紧的局面将延续至2026年以后,并正在加速推进全球建厂计划,大部分新产能预计从2027年起陆续投产。

这一扩张版图覆盖美国、日本、新加坡、印度及马来西亚,涵盖DRAM、HBM及NAND多条产品线,新产能时间表一路延伸至2030年。对投资者而言,这意味着美光的资本支出周期将持续数年,而供给释放的节奏也将深刻影响整个存储器市场的供需格局。

美国:爱达荷与纽约锚定前沿制程,弗吉尼亚扩产DDR4

美光在美国本土的扩产动作近期明显提速。5月22日,美光宣布位于弗吉尼亚州马纳萨斯的晶圆厂正式启动1α(1-alpha)DRAM量产。该节点为美光目前最先进的DDR4制程,公司表示此举将使该厂DDR4晶圆产出提升至原来的四倍,主要服务于汽车、工业、网络、医疗及国防航天等长生命周期应用领域。

据集邦咨询(TrendForce)分析,马纳萨斯Fab 6的扩产主要反映美光内部产能的重新分配,并不代表其重新聚焦消费电子DDR4供应。集邦预计,Fab 6的月投片量将在2027年第四季度达到2026年第二季度水平的1.5倍,1α制程的量产时间预计在2026年底前后。

在前沿制程方面,美光的核心布局集中于爱达荷州和纽约州。据STOCK Analysis的会议记录,美光管理层在摩根大通第54届全球科技、媒体与通信年会上表示,爱达荷州Idaho 1厂进展顺利,晶圆产出时间已从2027年下半年提前至2027年年中;Idaho 2厂预计于2028年底开始晶圆生产。

美光还表示,在完成第二座爱达荷晶圆厂后,计划在美国本土引入先进HBM封装能力。两座爱达荷工厂与研发中心的协同布局,预计将带来规模效益并加快HBM等前沿产品的上市速度。纽约州方面,美光已于今年1月提前举行奠基仪式,预计2030年开始投产,产能将在此后数年间逐步爬坡。

日本:广岛工厂动工在即,HBM出货目标锁定2028年

据日经新闻报道,美光计划投入约1.5万亿日元(约合96亿美元),在日本西部建设下一代存储芯片生产设施。该项目计划于2026年5月在广岛县东广岛市的现有广岛工厂厂区内启动建设,HBM芯片出货目标定于2028年前后。

尽管美光尚未正式确认上述计划,但日本当地媒体已记录到实质性的地面进展。据RCC Broadcasting报道,美光广岛工厂西侧约9.5公顷区域的土地开发工作已于今年3月启动,现场施工标识显示相关工程将持续至2028年2月。

此外,据Higashihiroshima Digital报道,美光存储日本公司已于今年3月中旬在西条町昭和町开设新的西条办公室,该办公室一楼约2320平方米的办公空间容纳了约300名员工,涵盖总务、市场营销等间接职能部门及工程团队。

新加坡与中国台湾:NAND与HBM双线并进

新加坡在美光全球版图中承担NAND产能扩张的核心角色。美光今年早些时候已在新加坡为新NAND晶圆厂举行奠基仪式,晶圆产出预计于2028年下半年启动。

与此同时,美光在摩根大通年会上表示,其位于新加坡的HBM设施建设进展顺利——该设施于2025年初奠基,预计2027年开始贡献产量,与台湾现有HBM业务形成互补。

中国台湾地区,美光在收购力晶积成(PSMC)铜锣晶圆厂后持续推进扩建。管理层表示,配套的孪生晶圆厂预计于今年夏季启动建设;现有铜锣P5厂预计于2027年日历年下半年开始实现有意义的DRAM晶圆产出;新铜锣厂则预计从2028财年起支持有意义的产品出货。

印度与马来西亚:后端封测支撑全球供应链

在前端晶圆制造之外,美光将印度和马来西亚定位为关键的后端封装与测试中心。据Adda 247 Current Affairs报道,美光位于印度萨纳德的工厂于2026年3月正式投产,标志着印度首个先进存储器ATMP(先进封装、测试、标记与封装)业务的落地。据Business Standard此前报道,该工厂满产后最高可贡献美光全球产出的10%,同时服务国内外市场。

马来西亚方面,据The Sun报道,美光于2010年在柔佛州麻坡建立马来西亚业务,此后扩展至槟城,并在当地持续建设下一代制造能力。目前,美光马来西亚工厂负责NAND、DRAM、固态硬盘及内存模组的封装与测试,产品直接供应从数据中心到边缘设备的各类AI应用场景。

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